• Главная
  • rss-лента сайта solo-project.com


Ионно-пучковая литография

Для формирования элементов шириной менее 0,12 мкм предпочтительна проекционная ионно-пучковая литография, позволяющая использовать электростатическую оптику для экспонирования изображения маски на пластину с уменьшением. Кроме того, возможно электронно-лучевое совмещение проецируемого изображения на пластине с нанометровой точностью. Разрешение при этом ограничивается не длиной волны, которая довольно мала, а искажениями, вносимыми оптической системой. Глубина проникновения ионов в слой резиста на порядок меньше, чем электронов, что исключает радиационное повреждение подложки.

Эксперименты, выполненные на ионной проекционной литографической установке с пятикратным уменьшением, показали, что в поле линз ионы водорода или гелия ускоряются до энергии 55 кэВ, а электростатическая оптика обеспечивает экспонирование поля 8 • 8 нм2. При этом достигается разрешение менее 0,1 мкм, сравнительно большая глубина фокусировки - около 100 мкм, достаточно точное электронно-лучевое совмещение и высокая производительность (60 пластин диаметром 200 нм в час) при отсутствии радиационных повреждений подложки.

В последнее время проводятся всесторонние исследования и ионно-пучковой, и рентгеновской, и электронной литографии. Полученные в ближайшем будущем экспериментальные результаты исследования таких литографических процессов и свойств используемых новых материалов могут оказаться решающими при выборе производственной технологии.

Компьютерная сеть

Возможности персонального компьютера существенно расширяются за счет использования компьютерных сетей...

читать далее

Перспективные технологии

До недавнего времени микроэлектронная технология основывалась на удалении лишнего материала из заготовки подобно тому...

читать далее

Квантовые компьютеры

В модернизации элементной базы компьютеров, основанной на традиционном электронном принципе, есть фундаментальное...

читать далее


Купите ноутбук недорого по выгодной цене. Дисконт. Акции. Доставка
pc-digger.com